國產(chǎn)光刻機現(xiàn)在是什么水平？

浪起激光2020-06-16119040

中國的芯片制造是中國科技界心中永遠的傷痛。

雖然現(xiàn)在我們可以獨立制造出中低端的芯片，但對于高端芯片仍然無能為力，就因為我們沒有制造高端芯片的光刻機！

有人斷言，EUV光刻機太先進了，如果我國未來5年可以買到，就能夠保證至少10年的半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，那中國將會成為難以壓制的對手。然而，無奈的是，中芯國際多次向ASML提出購買光刻機設備，卻因為美國的阻撓等種種原因，ASML久久未能交貨。

按照用途，光刻機可分為生產(chǎn)芯片的光刻機、用于封裝的光刻機、用于LED制造領域的投影光刻機這三種。其中用于生產(chǎn)芯片的光刻機是中國在半導體設備制造上最大的短板，國內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。國內(nèi)在這一領域差距太大，要想在短期內(nèi)實現(xiàn)國產(chǎn)替代并不現(xiàn)實。

那國產(chǎn)的光刻機目前達到什么水平了？

目前，中國最牛的光刻機生產(chǎn)商是上海微電子裝備公司（SMEE），它可以做到的最精密的加工制程是90nm，這就好比2020年的電腦還在使用2004年最新款的intel奔騰四處理器，也即是說，中國光刻機與荷蘭光刻機之間有著至少15年的差距……

據(jù)媒體報道，上海微電子裝備公司新一代的28nm浸沒式光刻機預計今年可以完成，但即使順利也得明年才能導入產(chǎn)線試產(chǎn)。

此前，我國在重大專項計劃中提出，2020年要實現(xiàn)22nm制程光刻機的突破，但目前還沒有成功的消息。即便實現(xiàn)這一突破，距離最先進的7nm以下的EUV光刻機仍然遙遠。

但好消息是，由于該技術進步空間非常有限，隨著制程的不斷縮小，繼續(xù)壓縮制程的難度越來越大，留給我們還有相對充足的追趕時間。

只是我國在自主研發(fā)制造光刻機這件事上，因為美國的技術封鎖，需要拿出單挑全世界的大氣魄，跟整個西方科技界死磕到底！

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